Centrotherm 主要产品

圆晶制造	功率半导体	微机电系统	光伏

centrotherm c.HORICOO 200 是经过现场验证的多功能管式炉系统，可用于大批量和中等批量生产以及研发。它为多种应用提供可靠的工艺能力和高工艺性能，例如常压和低压扩散以及 LPCVD 工艺。工艺管可配置用于具有相关设施的各种工艺。在一个炉内，可以安装 LPCVD 或混合管配置。所有的熔炉都可以配备一个集成的舟皿处理装置，可以存放工艺舟皿以及一个集成的晶圆传输系统。水冷式加热盒可大限度地减少对工艺管的外部影响。软着陆系统可在管内实现可重复的晶圆定位，不受晶圆负载的影响。易于维护确保低拥有成本和较长的正常运行时间。

centrotherm c.VERTICOO 平台适用于批量式晶圆加工，非常适合许多半导体器件制造步骤。工艺室和加热系统的特殊设计为温度高达 1100 °C 的所有标准大气和 LPCVD 工艺提供了大的灵活性。独立系统可作为用于大批量生产的高通量版本或用于研发和小批量生产的小批量设备。两种型号都具有出色的性能、占地面积小、拥有成本低和易于维护。大容量熔炉 c.VERTICOO 200 将单管设置与双舟物流和全自动载体到载体晶圆处理相结合，确保大产量，批量高达 150 个晶圆。迷你批次炉 c.VERTICOO Mini 满足半导体器件研发的苛刻要求，并允许客户通过每批次处理 50 个晶圆来降低开发成本。

c.DIFF 是 centrotherm 成熟且高度通用的扩散平台，用于在高性能太阳能电池加工中形成稳定的发射极。可靠的低压系统用于 p 型和 n 型 c-Si 太阳能电池制造。由于其广泛而灵活的工艺能力和性能，即使在 200 Ω/平方的高薄层电阻率下，c.DIFF 也能提供关于发射极均匀性的出色且可重复的结果。间歇式设备的独特优势是可以灵活地改变生产负载和工艺顺序，以及在单管维护、停机或工艺优化的情况下继续运行。